스크린 세미컨덕터 솔루션즈(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd., 이하 ‘스크린’)가 2018년 4월 20 일 열린 12인치 실리콘(Si) 웨이퍼를 위한 대량 전자빔 직접쓰기 석판인쇄(massively E-beam direct write lithography, MEBDW) 기술 개발(MEB12) 프로그램 출 범 기념식에서 대만 국립칭화대학교(NTHU)와 동 사업을 위한 양해각서(MoU)를 체결했다.

국립칭화대학교는 각국 반도체 장비 및 소프트웨어 공 급업체들과 대량전자빔 직접쓰기 석판인쇄(MEBDW) 공 정 기술을 혁신하는 반도체 산업계-대학 연합을 최초로 결성하여 첨단 무마스크(maskless) 석판인쇄 기술을 개 발할 예정이다.

MEBDW석판인쇄 기술은 ‘칩상의 보안(on-chip sec urity)’을 가능하게 해 대만이 인터넷, AI(인공지능), 전자 결제, 자동차 칩의 정보 보안을 유지할 수 있게 하는 고유 의 ID(신원확인 암호)가 부여된 보안 칩을 세계 최초로 개 발하여 시험 생산할 수 있게 된다.

MEB12프로그램 참여 업체는 세계 유일의 상용MEBDW 석판인쇄 장비 제조업체인 네덜란드의 매퍼 리소그래피 (Mapper Lithography B.V.)와 미국의 디자인 소프트웨 어 업체 시놉시스(Synopsys, Inc.) 등이다.

스크린은 MEB12프로그램을 위해 DUO석판인쇄 코트/ 개발 트랙(lithography coat/develop track) 시스템과 SU-3200단일 웨이퍼 세척 시스템(cleaning system) 을 지원한다.

<월간PT 2018년 5월 호>