동부하이텍이 미국 킬로패스社와 비휘발성 메모리 설계자산(IP)을 개발한다.
동부하이텍은(대표: 오영환 사장, http://www.dongbuhitek.co.kr)는 22일 세계적인 반도체 설계자산(IP) 회사인 킬로패스(Kilopass Technology)社와 비휘발성 메모리 설계자산(NVM* IP, Non-Volatile Memory Intellectual Property) 개발하기로 했다고 밝혔다.
이번 비휘발성 메모리 설계자산(IP)은 주로 로직(Logic) 반도체ㆍCIS(CMOS 이미지 센서)ㆍLDI(LCD 구동 칩) 등 비메모리 반도체에 내장형으로 구성되어 각각의 제품 기능을 제어하는 메모리를 설계하는 프로그램으로 전원이 끊어져도 정보가 지워지지 않는 비휘발성(Non-Volatile) 특징을 가지고 있다.
이번 IP 개발은 소비자들의 다양한 요구에 따라 휴대폰ㆍPDAㆍ스마트폰 등 디지털 제품들의 기능이 다양해지고 휴대하기 편리하게 경량화되면서 여러 종류의 반도체를 하나의 칩으로 만들고자 하는 팹리스(반도체 설계 전문회사)들의 요구를 적극적으로 받아들이면서 이루어졌다.
또한 이번 IP는 반도체에 정보를 기록하면 추가적인 기록이 불가능한 OPT(One-Time Programmable) 기능을 가지고 있어 해당 칩의 코딩 등 중요한 정보가 경쟁사에 의해 위조 또는 변조되는 것을 막아주는 특징을 가지고 있다.
특히 이번 IP는 로직 등 비메모리 반도체를 생산하면서 제품의 정보를 입력(코딩: Coding)하기 전에 내장형으로 삽입할 수 있게 구성되어 있다. 따라서 팹리스들은 제품을 최종적으로 공급하기 직전에 전류ㆍ전압 등 다양한 제품의 특성을 입력함으로써 고객사에서 요구하는 사양을 정확하게 제공할 수 있어 고객사의 유동적인 주문 물량에 능동적으로 대응할 수 있게 된다.
즉, 팹리스가 A와 B 고객으로부터 각각 X제품을 200개, Y제품을 300개 주문 받아 설계 후 제품을 출하하려 했지만 대내외적인 환경 변화로 A와 B 고객의 주문량이 각각 X제품 100개, Y제품 400개로 변경이 되었을 경우, 일반적인 IP를 사용했다면 제품의 사양을 칩 제조 후에는 변경할 수 없어 X제품은 100개가 재고로 쌓이게 되고 Y제품은 100개를 더 생산해야 하므로 상당한 시간과 비용이 추가적으로 들지만, 이번 IP를 사용한 경우라면 칩 출하 직전에 고객이 원하는 제품 사양에 맞추어 공급할 수 있게 된다.
동부하이텍 관계자는 “이번 IP는 기존 IP들의 체계인 1비트 2트랜지스터와 달리 1비트 1.5 트랜지스터 체계를 사용하고 있어서 기존 제품보다 약 30% 정도 크기를 축소할 수 있으며, 정보를 한번만 기록하면 되므로 정보의 삭제ㆍ기억을 위한 부동 게이트(Floating Gate)를 사용하지 않아 별도의 추가 포토 마스크(Photo Mask)*가 필요 없게 되어 칩의 제조 시간을 단축함은 물론 비용도 절감할 수 있게 되었다”고 밝혔다.
동부하이텍은 상반기 중으로 0.18 미크론급 비휘발성 메모리 IP를 개발하여 팹리스들에게 제공할 예정이며, 130나노급 제품도 3분기 중으로 제공할 계획이라고 밝혔다.
△ NVM (Non-Volatile Memory)= 비휘발성 메모리반도체로 전원이 끊어져도 정보를 유지하고 있어 전원이 공급되면 다시 저장된 정보를 사용할 수 있는 기억장치임.
△ OTP (One Time Programmable)= 비휘발성 메모리반도체로 일단 한번 정보를 기록하면 추가기록을 영구히 불가능하게 하여 특정 전자제품 또는 휴대형 기기의 중요한 정보가 위조되는 것을 막아주며, 고객이 원하는 프로그램을 직접 기록할 수 있는 고객 지향형의 반도체를 뜻함.
△ 포토마스크 (Photo Mask)= 반도체 회로 배열이나 패턴이 담긴 네거티브 필름 또는 유리
출처 : 동부하이텍
동부하이텍은(대표: 오영환 사장, http://www.dongbuhitek.co.kr)는 22일 세계적인 반도체 설계자산(IP) 회사인 킬로패스(Kilopass Technology)社와 비휘발성 메모리 설계자산(NVM* IP, Non-Volatile Memory Intellectual Property) 개발하기로 했다고 밝혔다.
이번 비휘발성 메모리 설계자산(IP)은 주로 로직(Logic) 반도체ㆍCIS(CMOS 이미지 센서)ㆍLDI(LCD 구동 칩) 등 비메모리 반도체에 내장형으로 구성되어 각각의 제품 기능을 제어하는 메모리를 설계하는 프로그램으로 전원이 끊어져도 정보가 지워지지 않는 비휘발성(Non-Volatile) 특징을 가지고 있다.
이번 IP 개발은 소비자들의 다양한 요구에 따라 휴대폰ㆍPDAㆍ스마트폰 등 디지털 제품들의 기능이 다양해지고 휴대하기 편리하게 경량화되면서 여러 종류의 반도체를 하나의 칩으로 만들고자 하는 팹리스(반도체 설계 전문회사)들의 요구를 적극적으로 받아들이면서 이루어졌다.
또한 이번 IP는 반도체에 정보를 기록하면 추가적인 기록이 불가능한 OPT(One-Time Programmable) 기능을 가지고 있어 해당 칩의 코딩 등 중요한 정보가 경쟁사에 의해 위조 또는 변조되는 것을 막아주는 특징을 가지고 있다.
특히 이번 IP는 로직 등 비메모리 반도체를 생산하면서 제품의 정보를 입력(코딩: Coding)하기 전에 내장형으로 삽입할 수 있게 구성되어 있다. 따라서 팹리스들은 제품을 최종적으로 공급하기 직전에 전류ㆍ전압 등 다양한 제품의 특성을 입력함으로써 고객사에서 요구하는 사양을 정확하게 제공할 수 있어 고객사의 유동적인 주문 물량에 능동적으로 대응할 수 있게 된다.
즉, 팹리스가 A와 B 고객으로부터 각각 X제품을 200개, Y제품을 300개 주문 받아 설계 후 제품을 출하하려 했지만 대내외적인 환경 변화로 A와 B 고객의 주문량이 각각 X제품 100개, Y제품 400개로 변경이 되었을 경우, 일반적인 IP를 사용했다면 제품의 사양을 칩 제조 후에는 변경할 수 없어 X제품은 100개가 재고로 쌓이게 되고 Y제품은 100개를 더 생산해야 하므로 상당한 시간과 비용이 추가적으로 들지만, 이번 IP를 사용한 경우라면 칩 출하 직전에 고객이 원하는 제품 사양에 맞추어 공급할 수 있게 된다.
동부하이텍 관계자는 “이번 IP는 기존 IP들의 체계인 1비트 2트랜지스터와 달리 1비트 1.5 트랜지스터 체계를 사용하고 있어서 기존 제품보다 약 30% 정도 크기를 축소할 수 있으며, 정보를 한번만 기록하면 되므로 정보의 삭제ㆍ기억을 위한 부동 게이트(Floating Gate)를 사용하지 않아 별도의 추가 포토 마스크(Photo Mask)*가 필요 없게 되어 칩의 제조 시간을 단축함은 물론 비용도 절감할 수 있게 되었다”고 밝혔다.
동부하이텍은 상반기 중으로 0.18 미크론급 비휘발성 메모리 IP를 개발하여 팹리스들에게 제공할 예정이며, 130나노급 제품도 3분기 중으로 제공할 계획이라고 밝혔다.
△ NVM (Non-Volatile Memory)= 비휘발성 메모리반도체로 전원이 끊어져도 정보를 유지하고 있어 전원이 공급되면 다시 저장된 정보를 사용할 수 있는 기억장치임.
△ OTP (One Time Programmable)= 비휘발성 메모리반도체로 일단 한번 정보를 기록하면 추가기록을 영구히 불가능하게 하여 특정 전자제품 또는 휴대형 기기의 중요한 정보가 위조되는 것을 막아주며, 고객이 원하는 프로그램을 직접 기록할 수 있는 고객 지향형의 반도체를 뜻함.
△ 포토마스크 (Photo Mask)= 반도체 회로 배열이나 패턴이 담긴 네거티브 필름 또는 유리
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