서울대학교 반도체공동연구소과 엘오티베큠 인물 사진 / 사진. 서울대 반도체공동연구소
 

서울대학교 반도체공동연구소가 반도체 진공장비 전문기업 엘오티베큠(LOT Vacuum)으로부터 고진공 스크루 펌프 ‘HD1200’ 2대를 기증받았다. 이번 기증을 통해 서울대는 스퍼터링 및 원자층증착(ALD) 공정 장비의 성능을 강화하고, 미세 박막 연구의 정밀도를 높이겠다는 계획이다.

기증된 HD1200은 10⁻³ Torr(10⁻¹ Pa)급의 안정적인 고진공 상태를 빠르게 확보하고 유지할 수 있는 장비로, 고순도 금속 증착에 필수적인 진공 환경을 제공한다. 특히 스퍼터링과 ALD 공정에서의 배기 계통 성능을 좌우하는 핵심 구성 요소로 평가된다.

서울대학교 반도체공동연구소는 이번 기증으로 공정 장비의 베이스 압력 안정성을 개선하고, 미세 금속막의 두께, 조성 등 특성의 재현성과 측정 데이터 신뢰도를 동시에 높일 수 있을 것으로 기대하고 있다.

서울대학교 이혁재 소장은 “HD1200 도입으로 공정 장비의 진공 품질이 대폭 향상돼 미세 금속막 공정의 재현성과 연구 데이터 신뢰도가 크게 높아질 것”이라며 “교육과 연구 환경 전반을 업그레이드하는 데 중요한 전환점이 될 것”이라고 밝혔다.

엘오티베큠 오흥식 회장은 “진공 펌프는 반도체 공정 장비의 성능에 직결되는 핵심 기술”이라며 “국산 고진공 기술을 통해 산업과 학계가 함께 성장하는 상생 모델을 계속 만들어 나가겠다”라고 말했다.

서울대학교 반도체공동연구소는 이번 기증 장비를 활용해 금속 박막 증착 공정에 대한 실험·교육 역량을 강화하고, 진공 품질의 고도화를 통해 국내 반도체 기술의 경쟁력 제고에 기여한다는 방침이다.

한편, 2002년 설립된 엘오티베큠은 건식 스크루 펌프와 터보 분자 펌프 등 고진공 솔루션을 자체 기술로 상용화해 국내 반도체 및 디스플레이 제조 현장에 공급해 왔다. 최근에는 에너지 효율형 펌프 제품군을 확장하는 한편, 국내 대학 및 연구기관을 대상으로 장비 지원 프로그램을 운영하며 반도체 생태계 내 기여를 이어가고 있다.