Metron3D 장비 설치 모습 / 사진. 인피니티사마

영국의 반도체 계측 솔루션 전문 기업 인피니티시마(Infinitesima)가 ASML을 비롯한 파트너사들과 함께 차세대 반도체 공정에 대응하는 고정밀 3D 계측 시스템 개발 프로젝트에 착수했다.

이번 프로젝트는 3년에 걸쳐 진행되며, 인피니티시마의 Metron3D 300㎜ 인라인 웨이퍼 계측 시스템을 활용해 하이브리드 본딩, 고개구율(high-NA) EUV 리소그래피, CFET(상보성 전계효과 트랜지스터) 등 차세대 3D 로직 반도체 구조에 적합한 계측 기술을 고도화하는 것이 목표다.

Metron3D 시스템은 인피니티시마의 독자 기술인 RPM™(Rapid Probe Microscope)을 기반으로 고속 이미징, 간섭계 수준의 정밀도, 나노 스케일의 3D 표면 분석을 구현한다. 이 기술은 특히 소자 전 구조에 걸쳐 정밀 계측이 필요한 고속 대량 생산 환경에서 요구되는 계측 솔루션으로 주목받고 있다.

인피니티시마는 이번 프로젝트의 일환으로 글로벌 나노일렉트로닉스 연구 기관 imec에 장비를 설치하고, ASML 등 파트너사들과 협력해 high-NA EUV 레지스트의 이미징 특성 분석과 기술 개발에 활용할 예정이다. 향후 imec과의 협업을 통해 장비 기능을 지속적으로 향상시킬 계획이다.

인피니티시마는 이번 협력의 최종 목표를 진정한 3D 공정 제어 구으로 제시하며, 첨단 반도체 제조 기술의 핵심 과제 해결을 위해 파트너십을 강화하고 있다고 밝혔다. 특히 인피니티시마와 imec 간의 협력은 2021년 RPM™ 기반의 나노스케일 탐지 및 고장 분석 프로젝트로 시작돼, 이번에 인라인 생산 계측 분야로 확대됐다.

인피니티시마 피터 젠킨스 회장 겸 CEO는 “imec과의 기존 협력을 확장해 차세대 반도체 공정에서의 계측 과제에 대응하게 돼 매우 기쁘다”라고 말했다.

이번 협력을 통해 인피니티시마는 인라인 반도체 계측 분야에서의 기술 리더십을 강화하고, 미세화 및 3D화가 빠르게 진전되고 있는 반도체 산업 내 정밀 검사 수요에 적극 대응할 방침이다.