ktolex™ - 동급 최강의 여과 기능, 프라이밍 속도 향상 및 장비 다운타임 단축 실현
선도적인 특수 재료 전문기업인 인테그리스가 최첨단 POU(point-of-use) 포토리소그래피 애플리케이션을 위한 혁신적인 Oktolex™ 멤브레인 기술을 선보였다. Oktolex의 혁신적인 멤브레인은 각 화학 물질의 요구에 맞게 각 멤브레인 유형들이 저마다 보유한 고유의 메커니즘을 강화하여 중요한 광화학적 오염 물질을 제거한다. Oktolex 멤브레인은 특정 오염 물질 흡착 메커니즘에 멤브레인 특성을 일치시킴으로써 화학적 조성과의 불리한 상호 작용없이 제거 성능을 최적화한다.
인테그리스의 미세오염제어 사업부문을 총괄하는 클린트 하리스(Clint Haris) 수석 부사장 겸 제너럴 매니저는 “기존 방식에서 탈피하여 로직, DRAM, 3D NAND 디바이스 제조용 ArF, KrF 및 EUV 애플리케이션의 특정 오염 제어 요구 사항에 대한 맞춤형 접근 방식을 통해 가장 까다로운 오염 물질을 제거할 수 있는 보다 빠르고 깨끗하고 효과적인 방법을 개발했다”며 “이 기술의 진정한 이점은 화학적 조성을 변화시키지 않으면서 표적 오염 물질을 효과적으로 제거하는 멤브레인을 만들 수 있다는 점이다. 이러한 이점들 덕분에 인테그리스는 고객과의 협력을 통해 첨단 노드의 요구 사항을 충족하고 장비의 다운타임을 줄이는 정밀 오염 제거 솔루션을 만들 수 있다”고 말했다.
Oktolex 기술은 현재 Entegris Impact® 8G point-of-use 광화학 필터로 이용 가능하다.
인테그리스, PSS 인수로 첨단 노드의 제조기업을 위한 제품 포트폴리오 확대
마이크로일렉트로닉스 산업용 특수 화학물질 및 첨단 소재 솔루션의 선두기업인 인테그리스(Entegris)가 반도체 및 생명과학 산업의 액체 응용분야용 입도측정기(particle sizing instrumentation) 주력기업인 PSS(Particle Sizing Systems, LLC.)를 인수했다고 발표했다.
이번 인수는 인테그리스의 글로벌 기술 플랫폼과 고객 관계를 활용함으로써 자사 기업 가치를 높이고자 하는 사업 전략의 일환이다. 총 인수 비용은 현금 3천 7백만 달러이며, 관례적인 운전자본조정 절차가 남아 있다. 인테그리스는 이번 거래로 2018년 수익이 증가할 것으로 기대하고 있다.
디지털 전환이 이루어지면서 최첨단 로직 및 메모리칩을 탑재한 정교한 클라우드 컴퓨팅 인프라에 대한 수요가 계속해서 늘어나고 있다. 그러나 첨단 노드를 활용하는 제조회사들은 점점 축소되고 있는 프로세스 윈도우와 높은 팹 비용으로 이미 어려움을 겪고 있는 상황이지만 수익을 유지하고 CMP 성능과 관련한 손실을 줄이기 위해 노력하고 있다.
첨단 노드의 CMP 애플리케이션에서 스크래치 불량은 종종 슬러리 마모 입자의 응집으로 인해 발생하곤 하는데, 이는 프로세스 수율에 영향을 미치는 핵심 요인이 될 가능성이 있다. 인테그리스는 PSS 인수를 통해 확보한 기술로 액체류 프로세스에서 바로, 온라인 및 실시간 입도 분석 수행을 지원할 수 있게 됐다. 모니터링 프로세스를 자동화하면 적절한 필터 선택 및 시스템 유지관리 등 더 효과적인 솔루션 활용이 가능하다. 또한 이러한 솔루션 활용을 통해 수율과 관련해 치러야 할 값비싼 대가를 줄일 수 있다.
인테그리스의 토드 에덜런드(Todd Edlund) 최고운영책임자(COO)는 “경쟁력을 유지하기 위해, 우리 첨단 노드 고객들은 협력사의 높은 품질 기준을 충족할 수 있도록 정확도와 일관성을 유지하면서도 공정을 줄일 수 있게 해주는 툴을 필요로 하고 있다”고 밝히고 “PSS 기술은 슬러리 내 모든 입도를 측정한다는 점에서 특별한데, 일반적인 기술을 사용하는 다른 방식들에 비해 정확도가 훨씬 뛰어나다. 그 결과, 이 기술은 효율성이 낮고 슬러리 이동 위험을 감수해야 하는 수동 시료채취와 개입의 필요성을 줄여준다”고 말했다.
<월간 반도체네트워크 2018년 1월 호>